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本文標(biāo)題:"微觀結(jié)構(gòu)分析方法-晶體學(xué)分析實(shí)驗(yàn)圖像顯微鏡"

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微觀結(jié)構(gòu)分析方法-晶體學(xué)分析實(shí)驗(yàn)圖像顯微鏡

 
晶體學(xué)分析方法
 
  晶體學(xué)分析技術(shù)基于采用x射線或者電子束伴隨的磁場(chǎng)(選區(qū)衍射)
衍射分析。這些技術(shù)在下列方面是很有用的:
 
  ·試樣中的物相;
 
  ·晶粒的晶體結(jié)構(gòu);
 
  ·透射顯微鏡下可觀察到的晶粒的結(jié)晶度。
 
 
選區(qū)衍射(SAD)微觀結(jié)構(gòu)分析方法
 
  微觀結(jié)構(gòu)分析可采用掃描電鏡,隧道掃描電鏡和原子力顯微鏡對(duì)涂
層表面進(jìn)行觀察,涂層的截面顯示了涂層的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。涂層中比較明顯
的特征,比如孔隙,裂紋和扁平顆粒,可以通過(guò)光學(xué)顯微鏡和掃描電鏡
進(jìn)行觀察,最后,透射電鏡可觀察到單個(gè)小晶粒的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。光學(xué)顯微
鏡(OM)
 
  光學(xué)顯微鏡,目前常使用的,它提供了涂層與基材最基本的信息
,這種手段可對(duì)如下進(jìn)行分析:
 
  ·孔隙
 
  ·未熔顆粒
 
  ·基材的變形(機(jī)械變形或者熱變形)
 
  ·測(cè)試涂層中不同的相,比如金屬陶瓷涂層中金屬相和陶瓷相
 
  ·顆粒形成的扁平顆粒,有還原反應(yīng)或者氧化反應(yīng)
 
  ·固態(tài)夾雜,可能源于等離子噴涂時(shí)候銅顆?;蛘哝u顆粒(在涂層
內(nèi)),或者源于涂層前處理(在基材與涂層界面)
 

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